II. Der Entwicklungsvorgang bei abnorm exponierten Platten. i. Allgemeine Grundsätze. Soll bei der Entwicklung ein bestimmter Charakter des Negatives erzielt werden, so ist der Prozess derart zu regeln, dass die Lichter eine passende Deckung er reichen und alle Schatteneinzelheiten genügend aus gebildet sind, ehe noch ein allgemeiner störender Schleier entstanden ist. Die verschiedenen ßromsilber-Gelatine platten verhalten sich bei der Entwicklung etwas ver schieden, sie erreichen mehr oder weniger rasch die gewünschte Dichtigkeit, und ihr Bromsilber ist ver schieden widerstandsfähig gegen die reduzierende Flüssig keit Aus diesem Grunde erscheint es zuweilen geboten, die Zusammensetzung des Entwicklers den Eigentüm lichkeiten der Platte entsprechend zu verändern, damit die Oberflächen- und Tiefenwirkung sich in passendem Masse an der Ausbildung des Negatives beteiligen. Der so abgestimmte Entwickler entspricht dann einer richtig exponierten Platte; war aber die Belichtungs dauer keine normale, so wird die Oberflächen- und Tiefenwirkung des Entwicklers sich wesentlich ändern, und soll das alte Verhältnis erhalten bleiben, so muss die Zusammensetzung des Entwicklers abgeändert werden. Eine zu lange exponierte Platte entwickelt sehr rasch, das Bild ist oberflächlich fertig, ehe noch ge nügende Tiefenwirkung stattgefunden hat, und entwickelt 4*